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探索SiC碳化硅晶体的制备与应用

2024-04-22| 发布者: 微山信息港| 查看: 144| 评论: 3|来源:互联网

摘要: SiC是一种重要的半导体材料,具有优异的电学性能和热学特性,被广泛应用于电子、光电子、能源等领域。SiC衬底是一种关键的基底材料,用于生长碳化硅晶片。SiC基板上的掺杂可以调控晶片的电性能,其中N型碳化硅晶片在功率器件中具有重要的应用价值。SiC单晶4H-N型碳化硅晶片是一种高品质的晶体材料,具有优异的载流子传输性能和热导率。通过对SiC晶体的制备和性能研究......
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SiC是一种重要的半导体材料,具有优异的电学性能和热学特性,被广泛应用于电子、光电子、能源等领域。SiC衬底是一种关键的基底材料,用于生长碳化硅晶片。SiC基板上的掺杂可以调控晶片的电性能,其中N型碳化硅晶片在功率器件中具有重要的应用价值。SiC单晶4H-N型碳化硅晶片是一种高品质的晶体材料,具有优异的载流子传输性能和热导率。通过对SiC晶体的制备和性能研究,可以进一步推动碳化硅材料在半导体器件制造和能源领域的应用。未来,SiC晶体的发展将为半导体产业带来更多创新和发展机遇。

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